合肥化妆品厂装修净化车间如何控制温湿度？

合肥化妆品厂装修净化车间如何控制温湿度？

在大规模集成电路生产的光刻曝光过程中，玻璃和硅片作为掩膜板材料的热膨胀系数要求越来越小。直径100um硅片，温度上升1度，导致0。um因此，必须有线性膨胀±0.恒温1度，湿度值一般较低，因为出汗后会污染产品，尤其是怕钠的半导体车间，不应超过25度。

湿度过高会导致更多的问题。当相对湿度超过55%时，冷却水管壁会结露。如果发生在精密装置或电路中，会造成各种事故。当相对湿度为50%时，很容易生锈。

然而，对于大多数净化工程，为了防止外部污染入侵，内部压力（静压）高于外部压力（静压）。净化工程的压差维护一般应符合以下原则：

1.清洁度高的空间压力高于相邻清洁度低的空间压力。

2.相通洁净室之间的门应开向洁净度高的房间。

3.合肥化妆品厂装修中，清洁空间的压力高于非清洁空间的压力。压差的维持取决于新鲜空气量。这种新鲜空气量应能够补偿在这种压差下从间隙泄漏的空气量。因此，压差的物理意义是通过洁净室各种间隙泄漏（或渗透）空气量的阻力。

对于乱流洁净室，由于主要依靠空气稀释来减少室内污染的程度，主要采用通风次数的概念，而不是直接采用速度的概念，但净化工程对于房间

内流速度也有以下要求：

1.合肥化妆品厂装修出风口的气流速度不宜过大。与简单的空调房间相比，速度衰减更快，扩散角度更大。

2.吹过水平面的气流速度(如侧送时的回流速度)不宜过大，以免吹起表面颗粒回流，造成净化工程再污染。这个速度一般不应该大干0。m/s。